上海qy千亿和研信企(qǐ)业管(guǎn)理(lǐ)有(yǒu)限公司
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中(zhōng)国(guó)(上海(hǎi))自(zì)由贸易试验区临港新片区集(jí)聚发展集成电路产业若(ruò)干措施
为促进中国(上海)自由贸易试(shì)验区(qū)临港新片区(以下简称(chēng)“临港新(xīn)片区”)集(jí)成电路产业的集(jí)聚(jù)和发(fā)展,根据《中国(上海)自由贸易试验区临港新片区总体方案》(国发〔2019〕15号)、《中国(上海)自由(yóu)贸易(yì)试验区(qū)临港(gǎng)新片区管理办法(fǎ)》(沪府令19号)和《关于促进中(zhōng)国(上海)自由贸易试验区(qū)临港新片区(qū)高质量发展实施特殊支(zhī)持政策(cè)的若干意见》(沪(hù)委发〔2019〕20号)等(děng)文件精神(shén),配套(tào)细化《中(zhōng)国(上海(hǎi))自由贸易试验区临港新(xīn)片(piàn)区促进产业发展(zhǎn)若干政策》(沪自贸临管经〔2019〕12号),特(tè)制(zhì)定本政策(cè)。
一、支(zhī)持范围
工商注册地、实际经营(yíng)地(dì)和(hé)财(cái)税户管地(dì)在临港新片区内的集成电路设计、制(zhì)造、封装(zhuāng)测试、设(shè)备材料、EDA等领域企业和与(yǔ)之相关的配套服务企业,以及经临港新片区(qū)管(guǎn)委(wěi)会认(rèn)定(dìng)后列入可支持范围的相(xiàng)关科研机构、高等(děng)院(yuàn)校、功能平台、创新载体等机构在临港新(xīn)片区(qū)实施(shī)的与集成电路产(chǎn)业相(xiàng)关的项目。
二、支持内容(róng)
1.支持重(chóng)大项(xiàng)目优先布局(jú)。支持具有国内外重大(dà)影响力的集(jí)成电路企业设(shè)立(lì)研发中心和投资产(chǎn)业化项目,支持集成电路(lù)产业的跨国公司设(shè)立离(lí)岸研发中心和制(zhì)造中心(xīn),支持企业申(shēn)请(qǐng)获得国家级和上海(hǎi)市级集成(chéng)电(diàn)路重大专(zhuān)项(xiàng)并对扶持资金予以配套,具体奖励、支持措施由临港新(xīn)片(piàn)区管委(wěi)会专项(xiàng)审议(yì)确定。
2.支持(chí)核心技术(shù)和(hé)产品(pǐn)攻关。每年由临港新片区管委(wěi)会根据(jù)国家(jiā)、上海市等产业(yè)和(hé)科技创新要求,征(zhēng)集集成电路领域(yù)产品需求、遴选优质项目,面(miàn)向全球招标悬赏(shǎng)任务承接团队,根据项目需求和专家评议结果(guǒ),对承担并完成核(hé)心技术突破任务的单位(或(huò)联合体)给(gěi)予该项技术研发费用最高(gāo)50%的资助。
3.支持企业规(guī)模化发展。其中:
(1)对集成电路设计类企业(yè),年度销售收入首次突破5000万元、1亿(yì)元(yuán)、3亿元、5亿元、10亿元的,经认定后(hòu)分别(bié)给(gěi)予最高不超过100万元、150万元、200万元(yuán)、300万元(yuán)、500万(wàn)元的一次(cì)性奖(jiǎng)励,每上一个台阶奖励一次、实施晋档(dàng)补(bǔ)差。
(2)对集(jí)成电(diàn)路(lù)制造、封装(zhuāng)测试类(lèi)企业,年度(dù)销售收入首次突破5亿元、10亿元、50亿元(yuán)、100亿元的,经认定(dìng)后分别给予(yǔ)最高不(bú)超过200万(wàn)元(yuán)、800万元、1200万元、1500万(wàn)元的一次性奖励,每上一(yī)个台(tái)阶奖励一次、实施晋(jìn)档补差。
(3)对集成电(diàn)路装备及材料类(lèi)企(qǐ)业,年度销售收入首次突破(pò)5000万元、1亿元、5亿元、10亿元的(de),经认(rèn)定后分别给予最高不超过200万元、800万元、1200万(wàn)元、1500万元的一(yī)次性奖(jiǎng)励(lì),每上(shàng)一个台阶奖(jiǎng)励一次、实施晋档补差。
以上(shàng)(1)至(3)的支持措(cuò)施,同一企业按照“从优不重复”原则自(zì)愿(yuàn)申报其中一类予以支持,且累计奖励(lì)金额不超过1500万元。
(4)鼓励集成(chéng)电路龙头骨干(gàn)企(qǐ)业进(jìn)行产(chǎn)业链(liàn)垂直整(zhěng)合,支持其开展境(jìng)内外非关联的并购(gòu)重组,成功并购国(guó)内外集(jí)成电路产业链相关企业或重点研发机构,超(chāo)过(guò)1000万的按实(shí)际发生(shēng)额10%补贴,最高累计1000万元。
(5)对新片区内(nèi)的非关(guān)联企(qǐ)业采购产(chǎn)品和服务(wù)的,且年采购金额累(lèi)计在500万(wàn)元以上,最高可按实(shí)际采(cǎi)购发(fā)票(piào)额(é)20%、给予(yǔ)采购方企业年度资助(zhù)最高1000万元。
4.支持EDA软件购买和(hé)研发。对购买EDA设计工具软件(含软件升级费用)的企业并(bìng)实际在临港(gǎng)新片区内(nèi)开展(zhǎn)办公研发的(de)企业(yè),按照(zhào)实(shí)际发生费用(yòng)的(de)50%,给予年度最高(gāo)200万元的支持。对在新片区从(cóng)事集成电(diàn)路EDA设计(jì)工具研发(fā)的企业,给予EDA研发费用最高50%的年度研发资助,总额不超过3000万元。
5.支持(chí)IP购买。对企(qǐ)业购买IP(来(lái)源(yuán)于IP提供商(shāng)、EDA供应商或者代工厂(chǎng)IP模块)开展高端芯片研发,给予IP购买实际支(zhī)付费用(yòng)50%的资助,其中:对采用工艺(yì)制程45nm以上的、年度(dù)资助最高300万(wàn)元,对(duì)采用工艺制程45nm以下的、年度资助(zhù)最(zuì)高800万元(yuán)。
6.支持测(cè)试(shì)验证。对开展(zhǎn)工程样(yàng)片的功能、性能、可靠性、兼容性、失(shī)效分析(xī)等(děng)方面的测(cè)试(shì)验证及相关认证的单位,按实际发生费用的50%给予支持、年度资助最高200万元(yuán)。
7.支持企业流片。其中:
(1)对于使用多(duō)项目晶圆(MPW)流片进行研发的(de)企业,按MPW直接费用,给予每(měi)家企业(模(mó)拟类最高100%、数字类最高60%)年度总额不超过300万元的资助。
(2)对(duì)于首次完(wán)成全(quán)掩膜(Full Mask:IP授权费、掩膜版(bǎn)费、测试化验(yàn)费、加工费等(děng))工程产品流片(piàn)的企业,给予流(liú)片费用(yòng)最高50%的资助,其(qí)中:对工艺制程在45nm以上(shàng)的、年度资(zī)助总额不超过600万(wàn)元(yuán),对工艺制(zhì)程在45nm以下的(de)、年度资助(zhù)总额(é)不超过2000万元。
8.支持推广(guǎng)应用。对于企业销售自(zì)主(zhǔ)研发设计的芯(xīn)片(piàn),且单款芯(xīn)片产品销售(shòu)金额累计超过500万元的,按当年销(xiāo)售金额最高10%给予奖励(lì),单款芯片产品年度奖励总(zǒng)额最高500万元。支持(chí)企业(yè)销售自主研发生产的集成电(diàn)路关键(jiàn)核心(xīn)设备(bèi)和(hé)材(cái)料,按(àn)照销(xiāo)售(shòu)金额的最高(gāo)30%、一(yī)次性给予(yǔ)最高(gāo)1000万元的奖励。
9.支持生产性用电。对符合国家战略发展需要、经认定(dìng)的集成电路(lù)封装测(cè)试、材(cái)料等(děng)生产型企业(yè)上一(yī)年度用电成本,按照“先交后补”的方式,给予用电费(fèi)用50%的支持,同一(yī)企业年度资助不超过(guò)500万元(yuán)、补贴年限最多3年。
10.其他支(zhī)持措施。建立(lì)临港新片区集成电路优势企业(单位)库并做(zuò)相关分类,结(jié)合企业和项目实际精准施策、优先支持(chí)、组合(hé)扶(fú)持。组建专业服务(wù)团队,对入库企业(单位)辅导申报(bào)国家、上海市和临港新片区出台(tái)的(de)各项资(zī)源要素(sù)(包括提高土地利用效率等)、财税金融(包括所得税、投融资、上市奖(jiǎng)励等)、招商(shāng)引企(qǐ)(包括企业落户、总部经济等(děng))、人才(包(bāo)括(kuò)人才引进、培养培(péi)训、住(租)房保(bǎo)障、医疗保障、子女就学、奖励补(bǔ)贴等(děng))、产业促(cù)进(包括关键核心技(jì)术(shù)与产品突破、产业(yè)能力提(tí)升等)、产教融合(hé)(包括(kuò)“产学研”、技能(néng)人才培(péi)养等(děng))、科(kē)技(jì)创新(包(bāo)括(kuò)功能平台、研发经费补贴奖(jiǎng)励(lì)等)、全(quán)流程保税、数(shù)据跨(kuà)境流(liú)动(dòng)、研发用房补贴等(děng)方面扶持政策。